[发明专利]薄膜晶体管及薄膜晶体管的制造方法、液晶显示面板有效
申请号: | 201710674521.9 | 申请日: | 2017-08-07 |
公开(公告)号: | CN107564966B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 李松杉 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336;G02F1/1368 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 钟子敏 |
地址: | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开一种薄膜晶体管及薄膜晶体管的制造方法、液晶显示面板,涉及显示技术领域。该薄膜晶体管包括基板、栅极层及绝缘层,栅极层形成于基板上,绝缘层覆盖于栅极层;半导体层,形成于绝缘层上;导体层,形成于半导体层上;绝缘间隔层,形成在绝缘层上;源漏极层,形成在导体层和绝缘间隔层上;钝化层,形成于源漏极层和半导体层上;其中,绝缘间隔层位于源漏极层和半导体层之间,可以解决薄膜晶体管存在漏电流过大的问题。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 制造 方法 液晶显示 面板 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管,其特征在于,所述薄膜晶体管包括:基板、栅极层及绝缘层,所述栅极层形成于所述基板上,所述绝缘层覆盖于所述栅极层;半导体层,形成于所述绝缘层上;导体层,形成于半导体层上;绝缘间隔层,形成在所述绝缘层上;源漏极层,形成在所述导体层和所述绝缘间隔层上;钝化层,形成于所述源漏极层和所述半导体层上;其中,所述绝缘间隔层位于所述源漏极层和所述半导体层之间。
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