[发明专利]一种用于测量样品的衍射结构的装置及方法

摘要

本发明公开了一种用于测量样品的衍射结构的装置及方法，装置包括测量装置和用于分析衍射的计算机系统。测量装置包括宽带辐射源、偏振元件、测量反射率的检测器。而由计算机执行的计算机程序，其中计算机程序包括以下指令提取步骤从所测量的零级衍射辐射的反射率中提取第一光谱信息；构造步骤使用结构信息和来自样品的至少一个底层的可变参数来构建用于模拟衍射结构的光学模型；以及计算步骤计算光学模型的第二光谱信息；以及曲线拟合步骤将计算的第二光谱信息拟合到提取的第一光谱信息，以确定衍射结构的结构信息以及来自样品的至少一个底层的可变参数；其中，构造步骤、计算步骤和曲线拟合步骤是实时执行的。

主权项

一种用于测量样品的衍射结构的装置，其特征在于，所述装置包括：测量装置，其在光线大致垂直入射时测量所述衍射结构的反射率和所述样品上的至少一个底层；所述测量装置包括：产生具有多个波长的辐射的宽带辐射源；偏振元件，所述辐射通过所述偏振元件朝向所述样品，所述辐射大致垂直入射到所述衍射结构和所述样品上的所述至少一个底层，并衍射穿过所述偏振元件的零级衍射辐射；测量所述零级衍射辐射的反射率的检测器；以及用于分析衍射的计算机系统，以确定所述样品上的所述衍射结构的结构信息；所述计算机系统包括：耦合到所述测量装置的计算机；以及由所述计算机执行的计算机程序，其中所述计算机程序包括以下指令：提取步骤：从所测量的所述零级衍射辐射的反射率中提取第一光谱信息；构造步骤：使用所述结构信息和来自所述样品的所述至少一个底层的可变参数来构建用于模拟所述衍射结构的光学模型；以及计算步骤：计算所述光学模型的第二光谱信息；以及曲线拟合步骤：将计算的所述第二光谱信息拟合到提取的所述第一光谱信息，以确定所述衍射结构的结构信息以及来自所述样品的所述至少一个底层的可变参数；其中，所述构造步骤、所述计算步骤和所述曲线拟合步骤是实时执行的。