[发明专利]基于小球改性的高阻变氧化还原石墨烯材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710584009.5 申请日: 2017-07-18
公开(公告)号: CN107488267B 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 龚天巡;毛琳娜;黄文;张华;俞滨;郭俊雄;刘志伟;高敏;林媛 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: C08J7/04 分类号: C08J7/04;C08L63/00;C08L33/04;C09D1/00;C09D7/65;C01B32/194;G01L1/22;G01B7/16
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 甘茂
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于柔性压力传感器领域,提供一种基于小球改性的高阻变氧化还原石墨烯材料及其制备方法;所述材料由氧化石墨烯掺杂聚乙烯纳米小球形成,其中,所述聚乙烯纳米小球的尺寸为直径90nm~2000nm,掺杂浓度为:质量比,1.56~12.5%。本发明将聚乙烯纳米小球(PS小球)掺进RGO薄膜中,聚乙烯纳米小球作为绝缘体引入,从而改变RGO碎片堆叠的结构,在同等的应变条件下,掺杂后的RGO的电阻变化将会变大,显示出很好的阻变特性;基于本发明RGO薄膜形成的传感器也就拥有更高的灵敏度(7~250),远远大于常规RGO传感器;同时还能够通过调节掺杂PS小球的尺寸及浓度实现应变检测范围的调节。
搜索关键词: 基于 小球 改性 高阻变 氧化 还原 石墨 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
基于小球改性的高阻变氧化还原石墨烯材料,其特征在于,所述材料由氧化石墨烯掺杂聚乙烯纳米小球形成,其中,所述聚乙烯纳米小球的尺寸为直径90nm~2000nm,掺杂浓度为:质量比,1.56~12.5%。
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