[发明专利]制备高比表面积的光刻胶-石墨烯材料的复合体系的方法有效
| 申请号： | 201710576149.8 | 申请日： | 2017-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN107367905B | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 邹应全;薛兵 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/40;G03F7/42;C01B32/182 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李小梅;刘金辉 |
| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备光刻胶‑石墨烯材料的复合体系的方法，其包括：1)提供包含石墨烯材料和光刻胶的混合物；2)采用掩模图形版对由步骤1)得到的混合物进行曝光；和3)用显影液处理由步骤2)得到的曝光的材料以除去未交联部分，得到光刻胶‑石墨烯材料的复合体系，其中所述石墨烯材料选自石墨烯、氧化石墨烯及其混合物。本发明方法工艺简单且所得复合体系具有高比表面积。所得复合体系适用于制备催化剂载体、表面吸附材料和微传感器。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 表面积 光刻 石墨 材料 复合 体系 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备光刻胶‑石墨烯材料的复合体系的方法，其包括：1)提供包含石墨烯材料和光刻胶的混合物；2)采用掩模图形版对由步骤1)得到的混合物进行曝光；和3)用显影液处理由步骤2)得到的曝光的材料以除去未交联部分，得到光刻胶‑石墨烯材料的复合体系，其中所述石墨烯材料为氧化石墨烯。
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