[发明专利]一种降低红薯的种植生长周期的山间种植红薯的方法在审
| 申请号： | 201710522656.3 | 申请日： | 2017-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN107223440A | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 任红 | 申请（专利权）人： | 任红 |
| 主分类号： | A01G1/00 | 分类号： | A01G1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 235000 安徽省淮*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种降低红薯的种植生长周期的山间种植红薯的方法，包括如下步骤1)平地选择在质地疏松，排水良好的山地，土壤pH在7，土层深度在45cm，去除杂草，平整土地；2)刨土开挖步骤1)的土层进行刨土操作，刨土深度为40cm，开挖栽植穴的深度为35cm，每行种植的行间距为250cm，并施加水，使表面土壤湿润即可；3)施肥在红薯茎幼苗种植之前，每个栽植穴底部施入氮肥，并在种植的幼苗根部填盖砂石15cm；于竖年施肥1‑2次；4)灌溉红薯茎幼苗每11天浇水一次，每次浇足。通过本发明提供的种植方法能够有效降低红薯的种植生长周期，便于农业上推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 降低 红薯 种植 生长 周期 山间 方法 | ||
【主权项】：
一种降低红薯的种植生长周期的山间种植红薯的方法，其特征在于，包括如下步骤：1)平地：选择在质地疏松，排水良好的山地，土壤pH在7，土层深度在45cm，去除杂草，平整土地；2)刨土：开挖步骤1)的土层进行刨土操作，刨土深度为40cm，开挖栽植穴的深度为35cm，每行种植的行间距为250cm，并施加水,，使表面土壤湿润即可；3)施肥：在红薯茎幼苗种植之前，每个栽植穴底部施入氮肥，并在种植的幼苗根部填盖砂石15cm；于竖年施肥1‑2次；4)灌溉：红薯茎幼苗每11天浇水一次，每次浇足。
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