[发明专利]照明光学单元有效
| 申请号： | 201710504412.2 | 申请日： | 2012-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN107239005B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | M.恩德里斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G21K1/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张邦帅 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于EUV投射曝光设备的照明光学单元(4)，具有光阑(23)，光阑包括具有离散对称组的辐射透射区域。光阑(23)的形状适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状或辐射源(3)的形状。光阑(23)优选地布置在中间焦平面的区域中。 | ||
| 搜索关键词： | 照明 光学 单元 | ||
【主权项】：
1.用于照明物场(5)的照明光学单元(4)，所述物场能够用从EUV辐射源(3)发出的辐射(14)通过成像光学单元(9)成像，所述照明光学单元包括：a.光瞳分面反射镜(18)，具有多个特定形状的分面，以及b.光阑(23)，包括第一区域(24)和第二区域(25)，第一区域能够透射照射的EUV辐射(14)，第二区域不能透过照射的EUV辐射(14)，其中，所述区域(24，25)限定光阑面，并且其中，所述区域(24，25)中的至少一个的形状具有适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状，c.其中，所述第一区域和所述第二区域具有多边形形式，d.其中，所述光阑(23)布置在中间焦平面(16)的区域中，其中所述区域(24，25)中的至少一个具有两重旋转对称性，而不是四重旋转对称性。
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