[发明专利]照明光学单元有效
申请号: | 201710504412.2 | 申请日: | 2012-05-16 |
公开(公告)号: | CN107239005B | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | M.恩德里斯 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G21K1/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张邦帅 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明 光学 单元 | ||
一种用于EUV投射曝光设备的照明光学单元(4),具有光阑(23),光阑包括具有离散对称组的辐射透射区域。光阑(23)的形状适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状或辐射源(3)的形状。光阑(23)优选地布置在中间焦平面的区域中。
本申请是申请日为2012年5月16日、申请号为201280025144.1、发明名称为“照明光学单元”的发明专利申请的分案申请。
相关申请的交叉引用
通过引用,将德国专利申请DE 102011076297.3和US 61/488901的内容并入本文。
技术领域
本发明涉及一种包括光阑的照明光学单元以及照明系统。此外,本发明涉及一种包括该类型的照明系统的EUV投射曝光设备、一种用于制造微结构或纳米结构部件的方法以及一种由该方法制造的部件。
背景技术
已知曝光设备的光学质量可通过适合地布置一个或多个光阑而得以改进。例如,从US 2007/242799A1中可知包括光阑的EUV投射曝光设备。
从现有技术中已知圆形光阑。根据本发明,已认识到这不会构成光阑的最佳设计。
发明内容
因此,本发明的目的是改进用于EUV投射曝光设备的照明光学单元。
该目的通过用于照明物场的照明光学单元实现,所述物场能够用从EUV辐射源发出的辐射通过成像光学单元成像,所述照明光学单元包括:光瞳分面反射镜,具有多个特定形状的分面,以及光阑,包括第一区域和第二区域,第一区域能够透射照射的EUV辐射,第二区域不能透过照射的EUV辐射,其中,所述区域限定光阑面,并且其中,所述区域中的至少一个的形状具有适配于光瞳分面反射镜的分面形状,其中,至少一个区域具有多边形形式,其中,所述光阑布置在中间焦平面的区域中。
根据本发明,已认识到光阑的形状还对投射曝光设备的成像质量产生重要影响。令人惊讶的是,已经确定圆形光阑形状通常不是最佳的,而实施为例如多边形形式的光阑导致改进的透射特性,并由此导致改进的成像质量。光阑具有辐射透射区域,特别地,辐射透射区域在光阑面中具有离散对称组。特别地,离散对称性是非零解的(non-trivial)n重旋转对称性,其中n≥2,特别地2≤n≤10,特别地n=2或n=4。在该情况下,光阑可实施为周向光阑(circumferential diaphragm)。其周向地界定光束路径。光阑的框架还可具有直接对称组。特别地,直接对称组对应于光阑开口的对称组。
根据有利实施例,光阑的形状适配于照明光学单元的分面元件的各分面的形状。有利地,光阑的形状特别适配于光瞳分面的形状。在矩形分面的情况下,光阑有利地也具有矩形形状。在该情况下,光阑的纵横比(aspect ratio)有利地精确对应于分面的纵横比。特别地,光阑的正方形实施例在正方形分面的情况下是有利的。
根据另一有利实施例,光阑的形状适配于辐射源的形状。这在光阑布置在辐射源的中间像的区域中的情况下是特别有利的。结果,物场的照明稳定性能够得到进一步改进。
根据实施例,所述区域中的至少一个具有两重旋转对称性,而不是四重旋转对称性。
根据特征在于所述光阑的所述第一区域在边缘上完全由所述第二区域环绕的照明光学单元,光阑实施为孔径光阑。特别有利的是当光阑的框架还尤其具有机械功能时。
特别地,光阑实施为中间聚集光阑,即,其布置在辐射源的中间焦平面区域中。
特别地,光阑的形状适配于来自EUV辐射源的EUV辐射的强度分布。在该情况下,特别地,可考虑EUV辐射源的实施例和收集器(collector)的结构细节。这种光阑形状的适配,尤其是光阑开口形状的适配使得可在光阑开口尽可能小的次要条件下最优化尤其是从源单元发出的EUV辐射的透射特性,例如总强度,以在辐射源和照明光学单元之间获得良好的真空分离。
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