[发明专利]基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法有效
| 申请号： | 201710499231.5 | 申请日： | 2017-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN107131838B | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | 刘红忠;尹磊;陈邦道;史永胜 | 申请（专利权）人： | 常州瑞丰特科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 张利强 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，包括以下步骤：掩模板的预处理：在长方形LCD掩模板的正面靠近四个角的地方形成带有十字图样和光栅条纹图样的绝对对正标记；曝光前的准备：对整个光栅基材进行清洗、溅射、前烘和涂胶的光刻前的准备工作；掩模图形的调制；单步曝光；多步连续曝光；光栅基材的图形化。本发明工艺简单，成本低廉，可以制造较长的多码道光栅尺。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅尺 多码 调制 光栅 掩模板 图样 基材 掩模 预处理 制造 曝光 光栅条纹 连续曝光 掩模图形 图形化 单步 对正 光刻 溅射 前烘 涂胶 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）掩模板的预处理：在长方形LCD掩模板的正面靠近四个角的地方形成带有十字图样和光栅条纹图样的绝对对正标记；（2）曝光前的准备：对整个光栅基材进行清洗、溅射、前烘和涂胶的光刻前的准备工作；（3）掩模图形的调制：利用计算机控制LCD掩模板，使LCD掩模板显示所需的光栅条纹图样，利用高倍数数码光学显微镜观察条纹图样与绝对对正标记的图样，若光栅条纹图样与绝对对正标记的光栅图样栅线方向不一致，则调节LCD掩模板所显示的光栅条纹图样，直到其栅线方向与绝对对正标记的栅线方向一致；（4）单步曝光：利用调整装置调节好LCD掩模板与光栅基材的相对位置，利用临近式紫外曝光光刻技术，对光栅基材上的抗蚀剂层进行曝光，曝光后，保护好光栅图形区，只对对正标记进行显影；（5）多步连续曝光：移动曝光光源或光栅基材，重复步骤（3）和（4）多次，直到对整个光栅基材上的抗蚀剂层完成曝光；（6）光栅基材的图形化：对经过步骤（5）后的光栅基材整体进行显影和腐蚀的工艺处理，形成最终的光栅尺。
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