[发明专利]基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法

权利要求书

1.一种基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）掩模板的预处理：在长方形LCD掩模板的正面靠近四个角的地方形成带有十字图样和光栅条纹图样的绝对对正标记；

（2）曝光前的准备：对整个光栅基材进行清洗、溅射、前烘和涂胶的光刻前的准备工作；

（3）掩模图形的调制：利用计算机控制LCD掩模板，使LCD掩模板显示所需的光栅条纹图样，利用高倍数数码光学显微镜观察条纹图样与绝对对正标记的图样，若光栅条纹图样与绝对对正标记的光栅图样栅线方向不一致，则调节LCD掩模板所显示的光栅条纹图样，直到其栅线方向与绝对对正标记的栅线方向一致；

（4）单步曝光：利用调整装置调节好LCD掩模板与光栅基材的相对位置，利用临近式紫外曝光光刻技术，对光栅基材上的抗蚀剂层进行曝光，曝光后，保护好光栅图形区，只对对正标记进行显影；

（5）多步连续曝光：移动曝光光源或光栅基材，重复步骤（3）和（4）多次，直到对整个光栅基材上的抗蚀剂层完成曝光；

（6）光栅基材的图形化：对经过步骤（5）后的光栅基材整体进行显影和腐蚀的工艺处理，形成最终的光栅尺。

2.根据权利要求1所述的基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，其特征在于，步骤（1）中利用激光蚀刻或ICP蚀刻的方法，在长方形LCD掩模板的正面靠近四个角的地方形成带有十字图样和光栅条纹图样的绝对对正标记。

3.根据权利要求1所述的基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，其特征在于，步骤（1）中的长方形LCD掩模板对角线尺寸为2~10英寸，LCD掩模板在通电并进行调制后，LCD掩模板的透光区对小于500nm波长的紫外光具有高透过性，分辨率高于2560×1440，单个像素的边长小于50微米，作为绝对对正标记的十字图样的长和宽均介于0.5mm~5mm间。

4.根据权利要求1所述的基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，其特征在于，步骤（2）中的光栅基材为微晶玻璃或低热膨胀系数的殷钢。

5.根据权利要求1所述的基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，其特征在于，步骤（3）中LCD掩模板显示的光栅条纹图样，包括N个码道，N<1000，每个码道上所显示的光栅条纹图样是具有周期特征的增量式光栅图样，或是不具有周期特征但符合一定编码规则的绝对式光栅图样，或者是具有周期特征的增量式光栅图样和不具有周期特征但符合一定编码规则的绝对式光栅图样，所有光栅条纹图样的栅线方向保持一致。

6.根据权利要求1所述的基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，其特征在于，步骤（4）中所用的曝光光源为具有365nm波长的I线光源或紫外光源。

7.根据权利要求1所述的基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，其特征在于，步骤（4）中的抗蚀剂层为UV光固化胶。

8.根据权利要求1所述的基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法，其特征在于，步骤（5）中在重复步骤（4）时，利用LCD掩模板上的绝对对正标记与光栅基材上显影出来的对正标记进行对正调整。