[发明专利]曝光装置及照明光学装置

摘要

衬底处理装置(EX)包括：投影光学系统(PL)，使从照明区域(IR)产生的反射光束(L2)向衬底投射，从而在衬底形成光罩图案的像；光分离部(10)，使朝向照明区域的照明光和从照明区域产生的成像光束中的一方通过而使另一方反射；和照明光学系统(IL)，形成一次光源像，并将来自一次光源像的照明光照射于照明区域，并且在中心线与圆筒面之间形成与一次光源像光学共轭的第1共轭面。

主权项

一种曝光装置，使形成于光罩的外周面上的反射性的光罩图案在感应性衬底上曝光，所述光罩是围绕规定的中心线弯曲成圆柱状或圆筒状而成的，所述曝光装置的特征在于，包括：照明光学系统，射出朝向照明区域的照明光，并且包括第1光学部件，该第1光学部件以使得在所述外周面的周向上分布的所述照明光的主光线的延长线在所述外周面与所述中心线之间的特定位置处交叉的方式设定，其中，所述照明区域设定于所述外周面的一部分；和投影光学系统，包括光分离部，该光分离部为了进行所述照明光的落射照明而使朝向所述照明区域的所述照明光和从所述照明区域产生的反射光在光学上分离，所述投影光学系统通过使来自所述照明区域的所述反射光入射并经由所述光分离部而朝向所述感应性衬底投射，由此将所述光罩图案的像投影到所述感应性衬底上。