[发明专利]荧光检测装置在审
申请号: | 201710455473.4 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN107525789A | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 伊藤优作;梁仙一;九鬼润一 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,乔婉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供荧光检测装置,能够实现降低保护膜发出的荧光的损失,高精度地检测保护膜的包覆状态。其具有激发光照射部(75),其对保护膜(P)照射具有吸收剂所吸收的波长的激发光(α);光电倍增管(73),其对吸收剂因被照射激发光(α)而发出的荧光(β)进行接收;荧光透过滤波器(74),其将吸收剂所发出的荧光(β)以外的波长的光去除;和反射镜(76),其具有将来自保护膜(P)的荧光(β)反射而导入到光电倍增管的反射面(76a),该反射面由旋转椭圆体的曲面的一部分构成,旋转椭圆体的第1焦点(F1)位于保护膜的被照射激发光的部分,第2焦点(F2)位于光电倍增管的光检测元件(73b)。 | ||
搜索关键词: | 荧光 检测 装置 | ||
【主权项】:
一种荧光检测装置,其对有无保护膜的包覆进行检测,所述保护膜保护工件的正面免受对工件进行激光加工时所产生的加工屑的影响,该保护膜由含有对激光的波长的光进行吸收的吸收剂的树脂形成,其中,该荧光检测装置具有:保持部,其对所述工件进行保持;以及光检测单元,其利用所述保护膜发出的荧光对所述保护膜的包覆状态进行检测,所述光检测单元包含:激发光照射部,其对所述保护膜照射具有所述吸收剂所吸收的波长的激发光;光检测部,其对所述吸收剂因被照射所述激发光而发出的荧光进行接收;滤波器,其将所述吸收剂所发出的荧光以外的波长的光去除;以及反射镜,其具有将来自所述保护膜的荧光反射而导入到所述光检测部的反射面,所述反射面由旋转椭圆体的曲面的一部分构成,所述旋转椭圆体的两个焦点中的一个焦点位于所述保护膜的被照射所述激发光的部分,另一个焦点位于所述光检测部。
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