[发明专利]宽吸收光谱的硫化铅薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201710454647.5 | 申请日: | 2017-06-15 |
公开(公告)号: | CN107315215B | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | 费广涛;谢秉合;许少辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院;中国科学技术大学 |
主分类号: | G02B5/22 | 分类号: | G02B5/22;G02B1/10;C01G21/21 |
代理公司: | 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 34118 | 代理人: | 任岗生 |
地址: | 230031 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种宽吸收光谱的硫化铅薄膜及其制备方法。薄膜由覆于衬底上的硫化铅晶粒组成,其中,薄膜的厚度为500‑540nm,硫化铅晶粒的粒径为6‑10nm,由粒径6‑10nm的硫化铅晶粒组成的薄膜于450‑2200nm波段呈现吸收峰;方法采用化学浴沉积法,即先将氢氧化钠溶液、硫脲溶液和三乙醇胺依次加入醋酸铅溶液中,得到混合液,再向混合液中加入去离子水,得到反应液,之后,先将衬底置于搅拌下的70‑80℃的反应液中至少2h,再对得到的其表面置有反应物的衬底进行清洗和干燥,制得目的产物。它具有较宽的波段吸收特性,极易于广泛地商业化应用于光电探测、太阳能涂覆吸收层、气敏检测等领域。 | ||
搜索关键词: | 吸收光谱 硫化铅 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种宽吸收光谱的硫化铅薄膜,由覆于衬底上的硫化铅晶粒组成,其特征在于:所述薄膜的厚度为500‑540nm;所述硫化铅晶粒的粒径为6‑10nm;所述由粒径6‑10nm的硫化铅晶粒组成的薄膜于450‑2200nm波段呈现吸收峰。
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