[发明专利]一种靶材余量测量装置有效
| 申请号： | 201710442063.6 | 申请日： | 2017-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN107101552B | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 边松林;张勋泽;肖亮;宣增志;关召军;丁文兵;张方馨 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B5/06 | 分类号： | G01B5/06 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空磁控镀膜技术领域，公开一种靶材余量测量装置，该靶材余量测量装置包括：主体结构，设有沿第一方向排列的多个测量轨道；每个测量轨道沿第二方向延伸，第二方向垂直于第一方向；多个顶针，与多个测量轨道一一对应；每个顶针沿第二方向延伸，且第一端限位于与其对应的测量轨道内；每个顶针可沿测量轨道自由移动、且可部分伸出测量轨道；多个滑块，与多个测量轨道一一对应；每个滑块可沿与其对应的测量轨道滑动地设置于测量轨道内、且限位于顶针的第一端一侧；每个滑块与测量轨道之间的静摩擦力大于其自身重力；主尺，设置于主体结构上，且设有沿第二方向排列的刻度线。上述靶材余量测量装置的测量步骤很简单，且测量结果比较精确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 余量 测量 装置 | ||
【主权项】：
1.一种靶材余量测量装置，其特征在于，包括：主体结构，设有沿第一方向依次排列的多个测量轨道；每个测量轨道沿第二方向延伸，所述第二方向垂直于所述第一方向；多个顶针，与所述多个测量轨道一一对应；每个顶针沿第二方向延伸，且第一端限位于与其对应的测量轨道内；每个顶针可沿与其对应的测量轨道自由移动、且可部分伸出所述测量轨道；多个滑块，与所述多个测量轨道一一对应；每个滑块可沿与其对应的测量轨道滑动地设置于所述测量轨道内、且限位于与所述测量轨道相对应的顶针的第一端的端面；每个滑块与所述测量轨道之间的静摩擦力大于其自身重力；一主尺，设置于所述主体结构上，且设有沿第二方向排列的刻度线。
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