[发明专利]用于校准光学安排的方法有效

专利信息
申请号: 201710440519.5 申请日: 2017-06-12
公开(公告)号: CN107490347B 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: F.霍勒;O.保罗;F.维杜勒 申请(专利权)人: 卡尔蔡司工业测量技术有限公司
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 披露了一种对用于确定测量对象的尺寸特性的光学安排进行校准的方法、以及一种实施所述方法的坐标测量机器。所述光学安排具有相机以及用于将第一周期性图案投影到投影区域上的投影仪。所述光学安排是沿着第一轴线相对于工件工作台可移动的。在所述工件工作台上、在相对于所述光学安排的第一位置处安排了亚光表面。在所述亚光表面上提供与所述第一周期性图案分开的第二周期性图案并且使之偏移。使用所述相机来记录所述第二图案的图像,并且使用所述第二周期性图案来确定所述相机的至少一个畸变像差。将所述第一周期性图案投影到所述亚光表面上并且确定所投影的第一周期性图案的至少一个图案点的第一和第二坐标,所述第二坐标是与同所述第一轴线相垂直的第二轴线有关的。将所述亚光表面相对于所述光学安排沿着所述第一轴线移位至第二位置,并且针对所述亚光表面沿着该第一轴线的多个相对位置重复上述步骤。
搜索关键词: 用于 校准 光学 安排 方法
【主权项】:
对用于确定测量对象的尺寸特性的光学安排进行校准的方法,所述光学安排包括被配置成用于将第一周期性图案投影到测量体积内的投影区域上的投影仪、以及用于记录所述投影区域的图像的相机,所述方法包括以下步骤:a)相对于所述光学安排将亚光表面安排在所述测量体积中的沿第一轴线的第一位置处,b)在所述亚光表面上提供与所述第一周期性图案分开的第二周期性图案、并且将所述第二周期性图案沿垂直于所述第一轴线的至少一个第二方向以多个相位步长来偏移,所述至少一个第二方向限定了至少一条第二轴线,c)使用所述相机来记录所述第二图案的图像并且使用所述第二周期性图案来确定所述相机的至少一个畸变像差,d)通过所述投影仪将所述第一周期性图案投影到所述亚光表面上,e)使用所述相机来记录所述第一图案的图像并且确定所投影的第一周期性图案的至少一个图案点的第一坐标,所述第一坐标是与所述第一轴线有关的,f)确定所投影的第一周期性图案的所述至少一个图案点的第二坐标,所述第二坐标是与所述第二轴线有关的,g)使得所述亚光表面相对于所述光学安排沿着所述第一轴线移位至第二位置,并且针对所述亚光表面沿着所述第一轴线的多个相对位置,重复步骤b)至f)。
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