[发明专利]低温制备二维柔性离子敏场效应晶体管的方法在审

专利信息
申请号: 201710440266.1 申请日: 2017-06-13
公开(公告)号: CN107238648A 公开(公告)日: 2017-10-10
发明(设计)人: 曾瑞雪;仇志军;吴东平 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G01N27/414 分类号: G01N27/414;B82Y40/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司31200 代理人: 陆飞,陆尤
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于电化学传感器件制造技术领域,具体为一种低温制备二维柔性离子敏场效应晶体管的方法。本发明中,以柔性材料作为衬底,其上沉积图形化金属层作为背电极,在背电极上生长绝缘氧化层,在绝缘介质层上转移二维半导体薄膜,作为器件的导电沟道;在二维半导体薄膜上形成图形化金属层作为该器件的源、漏区;在沟道区域上方沉积功能层材料。本发明利用微波退火工艺低温处理,一方面改善器件各层之间的界面特性,消除测试中由于界面缺陷造成的迟滞、漂移等现象;另一方面,借助功能层材料对微波的吸收作用,与在二维半导体薄膜界面处形成纳米结构的功能层,可应用于不同场景的传感检测。微波退火工艺具有快速,低热预算,制造周期短,成本低廉等优点。
搜索关键词: 低温 制备 二维 柔性 离子 场效应 晶体管 方法
【主权项】:
一种低温制备二维柔性离子敏场效应晶体管的方法,其特征在于,包含以下步骤:提供非柔性衬底,在所述非柔性衬底上涂覆柔性材料前躯体,固化后形成器件柔性衬底;在所述柔性衬底上形成图形化金属层一;在所述图形化金属层一上方形成绝缘介质层;在所述绝缘介质层上方转移二维半导体薄膜作为器件的导电沟道;在所述二维半导体薄膜上方形成图形化金属层二;在所述二维半导体薄膜及图形化金属层二上方沉积修饰层材料;采用微波退火工艺对器件进行低温退火处理;将器件从所述非柔性衬底上分离开,得到柔性衬底上具有特定传感功能的器件。
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