[发明专利]光学介质薄膜、Al2O3、含硅薄膜、激光器腔面膜的制备方法

摘要

一种光学介质薄膜、Al2O3、含硅薄膜、激光器腔面膜的制备方法，其中，光学介质薄膜的制备方法包括：将衬底放置在电子束蒸发设备的腔室中，抽真空；采用离化的氩气和氮气在高能电场下轰击衬底表面；高能电子分批次轰击光学介质的靶材，对光学介质粒子分步预熔；在衬底上沉积所述光学介质粒子，完成光学介质薄膜的制备。本发明的制备方法无需退火过程，避免了退火过程中对光学介质薄膜光学和机械性能等的影响，从而得到高质量的光学介质薄膜，为各种增透膜和高反膜的制备奠定基础。

主权项

一种光学介质薄膜的制备方法，包括以下步骤：步骤1、将衬底放置在电子束蒸发设备的腔室中，抽真空；步骤2、采用离化的氩气和氮气在高能电场下轰击所述衬底表面；步骤3、高能电子分批次轰击所述光学介质的靶材，对所述光学介质粒子分步预熔；步骤4、在所述衬底上沉积所述光学介质粒子，完成所述光学介质薄膜的制备。