[发明专利]一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法

摘要

本发明涉及一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，包括以下步骤：移动式去污装置的接入；氧化处理6～8小时；用pH为2～2.5的还原溶液进行还原处理3～5小时，其中，所述的还原溶液包括0.2～0.65g/L的硝酸、0.4～0.7g/L的L‑抗坏血酸、0.2～0.7g/L的辅助化合物；判断是否重复进行氧化和还原；用碱化溶液漂洗处理2～4小时；循环冲洗。本发明的化学清洗方法适用于在役压水堆核电厂主回路及核辅助系统设备内表面的现场就地去污，使待去污区域环境剂量率在短时间(通常1～3天)内降至原来的1/2～1/10，并且对机组重新运行无不良影响。

主权项

1.一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）、在待去污系统或设备的上下游低剂量区域接入移动式去污装置以使所述的待去污系统或设备与所述的移动式去污装置形成闭式循环系统；（2）、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80~85℃的温度下，用pH为12~12.5的氧化溶液进行氧化处理6~8小时后排空氧化处理液，其中，所述的氧化溶液包括0.25~0.75g/L的碱性化合物、0.75~1.25g/L的高锰酸盐；（3）、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80~85℃的温度下，用pH为2~2.5的还原溶液进行还原处理3~5小时后排空还原处理液，其中，所述的还原溶液包括0.2~0.65g/L的硝酸和0.4~0.7g/L的L‑抗坏血酸和0.2~0.7g/L的辅助化合物；所述的辅助化合物为选自α‑羟基羧酸、氨基羧酸、氨基酸中的一种或多种的组合；（4）、当就地测量的剂量率大于等于设定的剂量率时，重复进行所述的步骤（2）的氧化步骤以及所述的步骤（3）的还原步骤；当就地测量的剂量率小于所述的设定的剂量率或达到设定的进行所述的步骤（2）的氧化步骤以及所述的步骤（3）的还原步骤的循环次数时，进行下述步骤（5）；（5）、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80~85℃的温度下，用碱化溶液漂洗处理2~4小时后排空漂洗处理液，其中，所述的碱化溶液包括2~5mg/L的碱化剂；（6）、采用除盐水对经步骤（5）处理后的所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行循环冲洗，当电导率≤20 μS/cm时排空完成对系统或设备的清洗。