[发明专利]一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法

权利要求书

1.一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）、在待去污系统或设备的上下游低剂量区域接入移动式去污装置以使所述的待去污系统或设备与所述的移动式去污装置形成闭式循环系统；

（2）、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80~85℃的温度下，用pH为12~12.5的氧化溶液进行氧化处理6~8小时后排空氧化处理液，其中，所述的氧化溶液包括0.25~0.75g/L的碱性化合物、0.75~1.25g/L的高锰酸盐；

（3）、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80~85℃的温度下，用pH为2~2.5的还原溶液进行还原处理3~5小时后排空还原处理液，其中，所述的还原溶液包括0.2~0.65g/L的硝酸和0.4~0.7g/L的L-抗坏血酸和0.2~0.7g/L的辅助化合物；所述的辅助化合物为选自α-羟基羧酸、氨基羧酸、氨基酸中的一种或多种的组合；

（4）、当就地测量的剂量率大于等于设定的剂量率时，重复进行所述的步骤（2）的氧化步骤以及所述的步骤（3）的还原步骤；当就地测量的剂量率小于所述的设定的剂量率或达到设定的进行所述的步骤（2）的氧化步骤以及所述的步骤（3）的还原步骤的循环次数时，进行下述步骤（5）；

（5）、对所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行充水排气，然后在80~85℃的温度下，用碱化溶液漂洗处理2~4小时后排空漂洗处理液，其中，所述的碱化溶液包括2~5mg/L的碱化剂；

（6）、采用除盐水对经步骤（5）处理后的所述的待去污系统或设备以及所述的移动式去污装置进行循环冲洗，当电导率≤20 μS/cm时排空完成对系统或设备的清洗。

2. 根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，当需要重复进行所述的步骤（2）的氧化步骤以及所述的步骤（3）的还原步骤时，通过向所述的氧化处理液中加入所述的碱性化合物和所述的高锰酸盐以使所述的碱性化合物的浓度为0.25~0.75g/L、所述的高锰酸盐的浓度为0.75~1.25g/L，然后将调整成分后的所述的氧化处理液作为氧化溶液进行步骤（2）的氧化处理；通过向所述的还原处理液中加入所述的硝酸、所述的L-抗坏血酸和所述的辅助化合物以使所述的硝酸的浓度为0.2~0.65g/L、所述的L-抗坏血酸的浓度为0.4~0.7g/L、所述的辅助化合物的浓度为0.2 ~0.7g/L ，然后将调整成分后的所述的还原处理液作为还原溶液进行步骤（3）的还原处理。

3.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，所述设定的进行所述的步骤（2）的氧化步骤以及所述的步骤（3）的还原步骤的循环次数为三次。

4.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，步骤（3）中，所述的α-羟基羧酸为选自羟基乙酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸中的一种或多种；所述的氨基羧酸为选自氨基三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、N-羟乙基乙二胺三乙酸中的一种或多种；所述的氨基酸为选自甘氨酸、L-谷氨酸、L-半胱氨酸中的一种或多种。

5.根据权利要求4所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，所述的α-羟基羧酸的浓度为0.4~0.6g/L，所述的氨基羧酸的浓度为0.2~0.7g/L，所述的氨基酸的浓度为0.2~0.4g/L。

6.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，步骤（5）中，所述的碱化剂为氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或多种。

7.根据权利要求1或6所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，步骤（5）中，所述的碱化溶液的pH值大于9.5。

8.根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，采用除盐水进行充水以及氧化溶液、还原溶液、碱化溶液的配制。

9. 根据权利要求1所述的降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法，其特征在于，所述的化学清洗方法适用于以304、304L、316、316L、Inconel600、Inconel690、Stellite6或Stellite 12为基材的系统或设备。