[发明专利]真空阀及使用该真空阀的真空压力控制系统有效
申请号: | 201710404800.3 | 申请日: | 2017-06-01 |
公开(公告)号: | CN107461539B | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
发明(设计)人: | 伊藤稔;渡边雅之;桥口诚二 | 申请(专利权)人: | CKD株式会社 |
主分类号: | F16K31/122 | 分类号: | F16K31/122;F16K1/00;F16K31/06;F16K51/02 |
代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 苏萌萌;许梅钰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种真空阀及使用该真空阀的真空压力控制系统。真空阀(2)被配置在真空容器(8)与真空泵(9)之间,并通过操作流体而对阀开度进行调节,其中,被安装在活塞(25)的凹槽(26)中的垫片(27)具有:接触部(271),其被设置在径向内侧;和滑动接触部(272),其被设置在接触部(271)的径向外侧,且与气缸(20)的内周面(24)相接,接触部(271)与滑动接触部(272)之间的壁厚被设置得较薄。 | ||
搜索关键词: | 真空 使用 压力 控制系统 | ||
【主权项】:
1.一种真空阀(2、2A),具有:阀体(10),其具有阀座(14);阀芯(15),其与所述阀座(14)抵接或分离;气缸(20),其与所述阀体(10)连结,并对操作流体进行给排气;活塞(25),其被收纳在所述气缸(20)内并设有凹槽(26),所述凹槽(26)以向所述气缸(20)的内周面(24)侧开口的方式而被设为环状;垫片(27,27A),其被形成为环状并安装在所述凹槽(26)中;杆部(30),其对所述活塞(25)与所述阀芯(15)进行连结,所述真空阀(2、2A)被配置在真空容器(8)与真空泵(9)之间,并通过使所述气缸(20)被供给排出所述操作流体而对作用于所述活塞(25)的操作压力进行控制,从而对作为所述阀芯(15)与所述阀座(14)之间的距离的阀开度进行调节,所述真空阀(2、2A)的特征在于,所述垫片(27、27A)具有:接触部(271、271X),其被设置于径向内侧;滑动接触部(272、272X),其被设置于所述接触部(271、271X)的径向外侧,所述滑动接触部(272、272X)以在所述活塞(25)开始向事先移动方向相反的方向移动时相对于所述接触部(271、271X)而挠曲变形的方式与所述接触部(271,271X)连接的部分的所述垫片(27、27A)的轴线方向上的壁厚,薄于所述接触部(271、271X)的所述活塞(25)的轴线方向上的壁厚。
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