[发明专利]双轴倾斜活动装置、照相装置、光学装置以及电子设备有效

专利信息
申请号: 201710391798.0 申请日: 2017-05-27
公开(公告)号: CN108931875B 公开(公告)日: 2023-09-29
发明(设计)人: 寺嶋厚吉 申请(专利权)人: 新思考电机有限公司
主分类号: G03B5/00 分类号: G03B5/00;H02K41/035
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 喻学兵
地址: 314112 浙江省嘉兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种双轴倾斜活动装置10,该双轴倾斜活动装置10具有:内部保持部18,位于所述内部保持部18周边的外部保持部20,被所述内部保持部18和所述外部保持部20联结、使所述内部保持部18对于所述外部保持部20被保持为绕X轴以及绕与所述X轴垂直相交的Y轴自由倾斜活动的中间部22,固定于所述内部保持部18上的磁铁12,以及固定于外部保持部20上,配置于面对所述磁铁12的位置的多个线圈32;其中,所述磁铁12沿所述X轴与所述Y轴之间的方向磁化。根据本发明可以得到易于小型化的双轴倾斜活动装置、照相装置、光学装置以及电子设备。
搜索关键词: 倾斜 活动 装置 照相 光学 以及 电子设备
【主权项】:
1.一种双轴倾斜活动装置,其特征在于,具有:内部保持部,位于所述内部保持部周边的外部保持部,被所述内部保持部以及所述外部保持部联结、使所述内部保持部对于所述外部保持部被保持为绕X轴以及绕与所述X轴垂直相交的Y轴自由倾斜活动的中间部,固定于所述内部保持部上的磁铁,固定于外部保持部上、配置于面对所述磁铁的位置的多个线圈;其中,所述磁铁沿所述X轴与所述Y轴之间的方向磁化。
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