[发明专利]相变存储器在审
申请号: | 201710378936.1 | 申请日: | 2017-05-25 |
公开(公告)号: | CN108933195A | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
发明(设计)人: | 侯纪伟;袁之泉;刘锴;柳鹏;姜开利;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种相变存储器,其包括:至少一加热层及至少一相变层,该相变层与所述加热层一一对应设置,该加热层用于加热所述相变层,使该相变层达到相变温度,所述相变层的材料包括二氧化钒。 | ||
搜索关键词: | 加热层 相变存储器 一一对应设置 二氧化钒 加热 | ||
【主权项】:
1.一种相变存储器,其包括:至少一加热层及至少一相变层,该相变层与所述加热层一一对应设置,该加热层用于加热所述相变层,使该相变层达到相变温度,所述相变层的材料包括二氧化钒。
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