[发明专利]一种A向蓝宝石化学机械抛光用抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 201710334496.X | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN107189693B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 倪自丰;白亚雯;陈国美;滕康 | 申请（专利权）人： | 江南大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 张勇 |
| 地址： | 214122 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种A向蓝宝石化学机械抛光用抛光液及其制备方法，属于表面处理技术领域。其首先在硅溶胶中加入分散剂，随后将表面活性剂溶于去离子水，将两者混合继续添加消泡剂和pH调节剂，最后得到A向蓝宝石化学机械抛光用抛光液。本发明分别添加不同种类的表面活性剂对A向蓝宝石晶片进行化学机械抛光，并得出结论：在碱性条件下，使用阳离子型表面活性剂和两性表面活性剂时，抛光效率最高，并且具有较低的表面粗糙度；其次是非离子型表面活性剂；而阴离子型表面活性剂在碱性环境中抑制A向蓝宝石晶片的去除速率，从而提高抛光效率，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蓝宝石 化学 机械抛光 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种A向蓝宝石化学机械抛光用抛光液，其特征是配方比例按质量比例计如下：市售纳米二氧化硅溶胶溶液2%‑30%、表面活性剂0.001%‑0.5%、分散剂0.03%‑0.05%、消泡剂0.01%‑0. 5%、pH调节剂0.01%‑2%，其余为去离子水；首先在硅溶胶中加入分散剂，随后将表面活性剂溶于去离子水，将两者混合继续添加消泡剂和pH调节剂，最后得到A向蓝宝石化学机械抛光用抛光液。
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