[发明专利]掩膜板或显示母板以及制作显示母板上的切割标记的方法有效
| 申请号： | 201710330512.8 | 申请日： | 2017-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN107085350B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 王波;吴小平;姜成才;李高纯 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供了一种掩膜板或显示母板以及制作显示母板上的切割标记的方法，涉及显示技术领域，解决了现有技术中在进行OLED显示母板切割时，由于没有其他的参照系，切割设备在抓取残缺或者其他的情况的切割标记时，会导致无法准确抓取到切割线从而无法保证切割时的对位精度；在复检切割后的OLED显示母板的切割精度时，由于没有明显的参照系进行测量，导致复检切割精度的难度较大的问题。该切割标记，包括第一图案、第二图案以及平直的标记线；其中，第一图案、第二图案关于平直的标记线对称。本发明实施例用于切割标记的设计。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 显示 母板 以及 制作 切割 标记 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板或显示母板，其特征在于，所述掩膜板或所述显示母板上设置有切割标记，所述切割标记包括：第一图案、第二图案以及平直的标记线；其中，所述第一图案、所述第二图案关于所述平直的标记线对称。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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