[发明专利]一种保护涂料及制备方法、掩模板有效
| 申请号： | 201710329145.X | 申请日： | 2017-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN106977988B | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 万彬;黎敏;孙红雨;倪欢;刘超 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C09D4/00 | 分类号： | C09D4/00;C09D5/16;C09D7/62;C07D251/34;G03F1/48 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种保护涂料及制备方法、掩模板。根据本发明的保护涂料包括酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯。该保护涂料经光固化在掩模板本体的表面形成保护涂层，该保护涂层的存在可有效抵抗在曝光过程中玻璃基板上的异物接触掩模板，对掩模板起重要保护作用，提高所制作产品的优良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 保护 涂料 制备 方法 模板 | ||
【主权项】：
一种保护涂料，其特征在于，包括酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯。
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