[发明专利]等离子体装置有效
| 申请号： | 201710316726.X | 申请日： | 2017-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN108882494B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 苏恒毅 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726 | 代理人： | 陈亚英 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体装置，所述等离子体装置包括反应腔室和线圈，所述反应腔室用于容纳待处理晶片，所述线圈设置在所述反应腔室外侧，所述等离子装置还包括导磁件，所述导磁件内部设置有容纳空间，所述线圈设置在所述容纳空间内，以减小所述线圈上的电流，且能够提高耦合到所述反应腔室内的磁场的强度。本发明的等离子装置，能够有效降低线圈中的电流，从而可以降低线圈中的能量损耗，提高了该等离子装置的能量耦合效率，同时，还能够有效降低线圈发热带来的安全隐患，提高该等离子装置的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体装置，所述等离子体装置包括反应腔室和线圈，所述反应腔室用于容纳待处理晶片，所述线圈设置在所述反应腔室外侧，其特征在于，所述等离子体装置还包括导磁件，所述导磁件内部设置有容纳空间，所述线圈设置在所述容纳空间内，以减小所述线圈上的电流，且能够提高耦合到所述反应腔室内的磁场的强度。
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