[发明专利]一种全光谱响应型催化剂材料及其制备方法和用途有效
申请号: | 201710312308.3 | 申请日: | 2017-05-05 |
公开(公告)号: | CN106964334B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 赵宇亮;晏亮;谷战军 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
主分类号: | B01J23/18 | 分类号: | B01J23/18;C02F1/30;C02F1/32 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种全光谱响应型催化剂材料及其制备方法和用途,所述催化剂材料的制备方法包括以下步骤:(1)将铋盐溶于还原溶剂,混合均匀后加入氧化石墨烯溶液,搅拌得到混合溶液;(2)将步骤(1)得到的混合溶液加热进行反应,反应后经后处理得到复合物;(3)将步骤(2)得到的复合物在保护气氛下进行退火处理,得到全光谱响应型催化剂材料。本发明通过合理设计光催剂的结构以及组成,拓宽了光催化剂的应用条件,使制得的光催化剂在紫外、可见和红外波段都具有较高的光催化降解效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 光谱 响应 催化剂 材料 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】:
1.一种全光谱响应型催化剂材料的制备方法,其特征在于,所述催化剂材料的制备方法包括以下步骤:(1)将铋盐溶于还原溶剂,混合均匀后加入氧化石墨烯溶液,搅拌得到混合溶液;(2)将步骤(1)得到的混合溶液加热进行反应,反应后经后处理得到复合物;(3)将步骤(2)得到的复合物在保护气氛下进行退火处理,得到全光谱响应型催化剂材料;步骤(1)所述还原溶剂为二甲基亚砜和/或N,N‑二甲基甲酰胺;步骤(3)所述退火处理的温度为300℃~800℃。
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