[发明专利]离子源、离子源注入设备及离子分布调整方法在审
申请号: | 201710296102.6 | 申请日: | 2017-04-28 |
公开(公告)号: | CN107093542A | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 田香军;陈艳;王学勇 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;H01J37/317 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种离子源、离子注入设备及离子源的离子分布调整方法,所述离子源包括腔室;多个放电部件,设置在腔室内,用于在加载电信号之后产生电子;加速电极,设置在腔室内,用于与放电部件之间产生电场,以对电子加速;磁场产生部件,设置在腔室上,用于在腔室内产生磁场;气体引入部,用于向腔室内引入气体,以与电子碰撞产生离子;及,离子引出部,用于将腔室内的离子引出;离子源还包括移动机构,放电部件通过移动机构以可移动地方式设置在腔室内。本发明提供的离子源、离子注入设备及离子源的离子分布调整方法能够节省灯丝寿命,节约费用,提升离子束电流密度均一性和稳定性。 | ||
搜索关键词: | 离子源 注入 设备 离子 分布 调整 方法 | ||
【主权项】:
一种离子源,包括:腔室;多个放电部件,设置在所述腔室内,用于在加载电信号之后产生电子;加速电极,设置在所述腔室内,用于与所述放电部件之间产生电场,以对电子加速;磁场产生部件,设置在所述腔室上,用于在所述腔室内产生磁场;气体引入部,用于向所述腔室内引入气体,以与电子碰撞产生离子;及,离子引出部,用于将所述腔室内的离子引出;其特征在于,所述离子源还包括:移动机构,所述放电部件通过所述移动机构以可移动地方式设置在所述腔室内。
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