[发明专利]输入装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201710252507.X 申请日: 2017-04-18
公开(公告)号: CN108631805A 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 邱丕良 申请(专利权)人: 巨擘科技股份有限公司
主分类号: H04B1/3827 分类号: H04B1/3827;H04M1/725;G04R60/06
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 翟羽
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 本揭示涉及一种输入装置及其制造方法,该输入装置包括一上盖、一外壳、一下盖、一透明导电膜、以及一功能模块。该上盖、该外壳及该下盖由上而下依序组成以形成一容置空间。该透明导电膜形成于该上盖之一下表面。该功能模块包括一触碰侦测单元以及一处理器。该触碰侦测单元用于透过该透明导电膜感测一信号变化,该信号变化为执行在该上盖之一动作所产生。该处理器用于根据该信号变化的模式输出对应的指令。该通信装置能避免电磁波受到外壳的影响且更加容易操作。
搜索关键词: 上盖 透明导电膜 输入装置 信号变化 触碰侦测 处理器 模式输出 容置空间 通信装置 电磁波 下表面 感测 下盖 制造 指令
【主权项】:
1.一种输入装置,其特征在于,包括:一上盖;一外壳;一下盖,该上盖、该外壳及该下盖由上而下依序组成以形成一容置空间;一透明导电膜,形成于该上盖之一下表面,其中该透明导电膜形成于该上盖之该下表面后,该上盖及该透明导电膜的组合具有70%以上的穿透率,该上盖及该透明导电膜的组合不显示影像;以及一功能模块,设置于该容置空间中,该功能模块包括:一触碰侦测单元,用于透过该透明导电膜感测一信号变化,其中该信号变化为执行在该上盖或该上盖上方之一动作所产生;以及一处理器,用于接收该信号变化并根据该信号变化输出对应的指令。
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