[发明专利]光电墨水及其制备方法和应用方法在审
| 申请号： | 201710224435.8 | 申请日： | 2017-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN108690397A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 张东煜;苏文明;崔铮 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | C09D11/033 | 分类号： | C09D11/033;C09D11/03;C09D11/30;C09D11/102 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光电墨水，包括光电材料和以超临界流体为材料的溶剂。本发明还公开了上述光电墨水的制备方法以及其在印刷电子领域的应用方法。根据本发明的光电墨水以超临界流体作为溶剂，以使其在使用过程中，可简单借助于压力变化或压力和温度的双重变化而自行由超临界流体态转变为气态而完全挥发，相对于现有技术中所采用的溶剂，保证了最终形成的光电功能层中午溶剂残留，提高了光电功能层的纯化程度，避免了残留的溶剂对光电性能带来的不利影响，有利于印刷电子器件性能的提高。与此同时，根据本发明的光电墨水中的溶剂优选为超临界二氧化碳、超临界水等无污染绿色的物质，也避免了在使用过程中挥发所带来的环境污染等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 溶剂 墨水 超临界流体 光电功能 挥发 超临界二氧化碳 制备方法和应用 印刷电子器件 超临界水 电子领域 光电材料 光电性能 溶剂残留 超临界 优选 制备 残留 印刷 应用 保证 | ||
【主权项】：
1.一种光电墨水，以超临界流体为溶剂。
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