[发明专利]日照遮蔽膜形成用涂布液及相关的粘合剂、日照遮蔽膜和基材在审

专利信息
申请号: 201710216642.9 申请日: 2017-04-05
公开(公告)号: CN106905843A 公开(公告)日: 2017-06-30
发明(设计)人: 饭田繁树 申请(专利权)人: 沙河市湡久新材料有限公司
主分类号: C09D183/06 分类号: C09D183/06;C09D183/08;C09D7/12
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司31229 代理人: 曾耀先
地址: 054100 河北省*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明提供一种日照遮蔽膜形成用涂布液,包括粘合剂和近红外线遮蔽剂,粘合剂包括式I所示的化合物,X为烷氧基。较佳地,烷氧基是甲氧基或乙氧基。式I所示的化合物采用含有缩水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷与四羟基二苯甲酮进行混合反应而成。近红外线遮蔽剂是平均粒径为100nm以下的近红外线遮蔽微粒子。选自含氧化锡微粒子、含氧化钨微粒子、含钌氧化物微粒子、含铱氧化物微粒子和含铑氧化物微粒子中的一种或多种。还提供了相关粘合剂、日照遮蔽膜和基材。本发明的日照遮蔽膜形成用涂布液不仅能够在常温下硬化成膜,而且获得的硬化膜日照遮蔽能力高以及表面硬度高,设计巧妙,制备简便,成本低,适于大规模推广应用。
搜索关键词: 日照 遮蔽 形成 用涂布液 相关 粘合剂 基材
【主权项】:
一种日照遮蔽膜形成用涂布液,包括粘合剂和近红外线遮蔽剂,其特征在于,所述粘合剂包括式I所示的化合物:其中,X为烷氧基。
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