[发明专利]晶圆级照相模块有效
申请号: | 201710191864.X | 申请日: | 2015-12-15 |
公开(公告)号: | CN106993120B | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 杜茂华 | 申请(专利权)人: | 三星半导体(中国)研究开发有限公司;三星电子株式会社 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H01L27/146 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;尹淑梅 |
地址: | 215021 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 提供了一种晶圆级照相模块,其包括:图像传感器,包括形成在其顶表面上的成像区域;顺序地堆叠在图像传感器上的第一和第二变焦单元,第一和第二变焦单元中的每个包括压电薄膜、可变形层和透镜,压电薄膜具有用于暴露成像区域的开口,可变形层设置在压电薄膜上以覆盖开口,透镜对应于成像区域附着到可变形层;第一和第二支撑层,第一支撑层设置在图像传感器与第一变焦单元之间,第二支撑层设置在第一变焦单元与第二变焦单元之间;第一和第二导电通路,第一导电通路贯穿图像传感器和第一支撑层并电连接到第一变焦单元,第二导电通路贯穿图像传感器、第一支撑层、第一变焦单元和第二支撑层并电连接到第二变焦单元。 | ||
搜索关键词: | 晶圆级 照相 模块 | ||
【主权项】:
一种晶圆级照相模块,包括:图像传感器,包括形成在其顶表面上的成像区域;第一支撑层,设置在图像传感器上并具有用于暴露成像区域的第一开口;第一变焦单元,包括第一压电薄膜、第一可变形层和第一透镜,第一压电薄膜设置在第一支撑层上并具有用于暴露成像区域的第二开口,第一可变形层设置在第一压电薄膜上以覆盖第二开口,第一透镜对应于成像区域附着到第一可变形层;第二支撑层,设置在第一可变形层上并具有用于暴露成像区域的第三开口;第二变焦单元,包括第二压电薄膜、第二可变形层和第二透镜,第二压电薄膜设置在第二支撑层上并具有用于暴露成像区域的第四开口,第二可变形层设置在第二压电薄膜上以覆盖第四开口,第二透镜对应于成像区域附着到第二可变形层;第一导电通路,贯穿图像传感器的未形成有成像区域的至少一部分和第一支撑层以电连接到第一压电薄膜;以及第二导电通路,贯穿图像传感器的未形成有成像区域的至少一部分、第一支撑层、第一压电薄膜、第一可变形层和第二支撑层以电连接到第二压电薄膜。
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