[发明专利]补偿由光刻镜头散射光导致曝光误差的方法

摘要

本发明提供一种补偿由光刻镜头散射光导致曝光误差的方法，其通过量测每个曝光区域内受到散射光影响的特征尺寸CD大小，从而计算出该曝光区域内由于光刻镜头雾化产生的散射光在整个曝光区域内的分布情况，换算补偿到实时曝光时该区域所对应的曝光剂量中，通过补偿曝光剂量来减少由于散射光造成的特征尺寸CD的过大差异，从而减少曝光误差。

主权项

1.一种补偿由光刻镜头散射光导致曝光误差的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：提供一掩模板和测试硅片，将其使用光刻机曝光，所述掩模板上划分若干个曝光区域，每个曝光区域在至少在同一方向上具有至少两个重复图形；步骤二：在同一方向上，对每个曝光区域内所有的重复图形进行特征尺寸量测；步骤三：根据步骤二的量测结果，计算出每个曝光区域内选定特征尺寸量测值的平均值；步骤四：根据步骤三的计算结果，计算每个曝光区域内选定特征尺寸量测值的平均值补偿到该曝光区域内实时曝光时曝光剂量的补偿量，然后计算出每个曝光区域内实时曝光时的曝光剂量，在实时曝光时，使用计算出的曝光剂量进行曝光。