[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201710168873.7 | 申请日： | 2017-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN108624234A | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 尹先升;贾长征;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光液，其中包含纳米研磨颗粒、含有季铵结构官能团的有机硅化学添加剂及pH调节剂。本发明选用纳米研磨颗粒在经所选含有季铵基团的有机硅处理后，在pH 2～12范围内显示出良好的稳定性，并且在低的颗粒浓度下具有高的二氧化硅抛光速率和低抛光表面缺陷率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学机械抛光液 纳米研磨 有机硅 化学添加剂 二氧化硅 季铵基团 抛光表面 缺陷率 速率和 抛光 季铵 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光液，包含纳米研磨颗粒、含有季铵结构官能团的有机硅化学添加剂及pH调节剂。
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