[发明专利]一种激光合成监控测量装置在审

专利信息
申请号: 201710168832.8 申请日: 2017-03-21
公开(公告)号: CN108627245A 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 马骏;陈帆;朱日宏;袁群;潘少华;张建云;王敏 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J1/00
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 朱宝庆
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种激光合成监控测量装置,包括分光镜、功率计、高反镜、衰减片、聚焦透镜、CCD、光谱仪、M2因子测量仪;其中待测合成光束经过分光镜后分为两路,其中第一路折射至功率计,第二路透射至高反镜,待测合成光束经过高反镜后分为两路,其中第一路折射至M2因子测量仪,第二路投射至衰减片,待测合成光束经过衰减片后一部分经过光线导入光谱仪且另一部分射入聚焦透镜聚焦至CCD。本装置不仅能测量单束激光的各项参数,而且还能对合成光束的特性参数进行准确测量,并通过CCD对各子光束质心进行实时监控优化。
搜索关键词: 合成光束 高反镜 衰减片 监控测量装置 光谱仪 激光合成 聚焦透镜 测量仪 分光镜 功率计 两路 折射 单束激光 实时监控 特性参数 准确测量 子光束 射入 投射 质心 测量 聚焦 优化
【主权项】:
1.一种激光合成监控测量装置,其特征在于,包括分光镜(2)、功率计(3)、高反镜(4)、衰减片(5)、聚焦透镜(6)、CCD(7)、光谱仪(8)、M2因子测量仪(11);其中待测合成光束(1)经过分光镜(2)后分为两路,其中第一路折射至功率计(3),第二路透射至高反镜(4),待测合成光束(1)经过高反镜(4)后分为两路,其中第一路折射至M2因子测量仪(11),第二路投射至衰减片(5),待测合成光束(1)经过衰减片(5)后一部分经过光线导入光谱仪(8)且另一部分射入聚焦透镜(6)聚焦至CCD(7)。
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