[发明专利]一种化学研磨抛光液及研磨抛光方法有效
| 申请号： | 201710168716.6 | 申请日： | 2017-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN108624237B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 何友余;吴育祥;李德荣 | 申请（专利权）人： | 上海铝通化学科技有限公司;上海瑞特良化工有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/06 | 分类号： | C09G1/06;C23F3/03 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人： | 赵霞 |
| 地址： | 201799 上海市青浦区白鹤镇*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学研磨抛光液，包括以下组分：1～15wt%的硫酸溶液、10～50wt%的双氧水溶液、3～15wt%的稳定剂、0.1～5wt%的润湿剂、2～12wt%的整平剂。与现有技术相比，本发明的化学研磨抛光液中不含硝酸、铬酐等有毒有害物质，研磨抛光过程中不会危害人体健康以及对环境造成污染，且本发明的研磨抛光过程在常温下进行，不需要加热，极大的降低了化学反应能耗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 研磨 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学研磨抛光液，其特征在于，包括以下组分：1～15wt%的硫酸溶液、10～50wt%的双氧水溶液、3～15wt%的稳定剂、0.1～5wt%的润湿剂、2～12wt%的整平剂。
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