[发明专利]受激辐射损耗显微装置有效
| 申请号： | 201710162052.2 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN106841149B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 王富;张辉;乔丙闪;张晓蕾 | 申请（专利权）人： | 王富 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 韩璐 |
| 地址： | 313300 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供的受激辐射损耗显微方法及装置，包括如下步骤：步骤S1，将初始激光光束分为第一激光光束和第二激光光束；步骤S2，调节所述第一激光光束的能量，并将所述第一激光光速聚焦在晶体光纤上，所述晶体光纤能够被激光激发,输出具有连续光谱的激发光；步骤S3，调制所述激发光为红色光斑，调制所述第二激光光束为环形的STED光；步骤S4，将所述激发光和所述STED光重叠为同轴光线，并聚焦于荧光样品上；步骤S5,通过调节所述第一激光光束的能量，使荧光样品发出荧光；步骤S6，采集荧光样品发出的荧光，获得图像。本发明提供受激辐射损耗显微方法及显微装置，分辨率高，能够连续调节激发光和STED光的波长，适应不同的荧光。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 损耗 显微 装置 | ||
【主权项】：
一种受激辐射损耗显微方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1，将初始激光光束分为第一激光光束和第二激光光束；步骤S2，调节所述第一激光光束的能量，并将所述第一激光光速聚焦在晶体光纤上，所述晶体光纤能够被激光激发,输出具有连续光谱的激发光；步骤S3，调制所述激发光为红色光斑，调制所述第二激光光束为环形的STED光；步骤S4，将所述激发光和所述STED光重叠为同轴光线，并聚焦于荧光样品上；步骤S5,通过调节所述第一激光光束的能量,使荧光样品发出荧光；步骤S6，采集荧光样品发出的荧光，获得图像。
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