[发明专利]投影物镜的焦面测量装置和方法以及曝光系统

摘要

本发明涉及一种投影物镜的焦面测量装置和方法以及曝光系统，该测量装置固定于工件台上与所述工件台同步运动，依次包括基准板、成像镜组、视觉单元、控制单元及焦面计算单元，掩模上的第一标记经投影物镜所成的空间像与所述基准板的位置对应，所述基准板与所述视觉单元的靶面共轭。本发明将视觉单元安装于工件台上，用以监测投影物镜的焦面位置，代替了人工定期校准的方式；与现有的光栅‑光电二极管相比，降低了测量装置的复杂度及成本，同时提高了兼容性。

主权项

1.一种投影物镜的焦面测量装置，固定于工件台上与所述工件台同步运动，其特征在于，所述测量装置包括基准板、成像镜组、视觉单元、控制单元及焦面计算单元，掩模上的第一标记经所述投影物镜所成的空间像与所述基准板的位置对应，所述基准板与所述视觉单元的靶面共轭；所述控制单元在所述工件台垂向移动时的每个垂向高度位置，控制所述视觉单元拍摄所述基准板上的成像，所述焦面计算单元分析所述视觉单元上成像的边界过渡宽度，找出满足需求的边界过渡宽度对应的工件台垂向高度即为所述投影物镜的焦面位置。