[发明专利]一种Cu2O纳米阵列的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710064972.0 申请日: 2017-02-05
公开(公告)号: CN106835242B 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 江瑶瑶;钟福新;高云鹏;黎燕;莫德清 申请(专利权)人: 桂林理工大学
主分类号: C25D11/34 分类号: C25D11/34;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广西壮*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明公开了一种Cu2O纳米阵列的制备方法。将8.8 mmol/L~0.115 mol/L NH4F溶液、7.54 mol/L~7.99 mol/L甘油水溶液与0.027 mmol/L~0.295 mmol/L十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)溶液混合均匀,配制成弱酸性电解液;以Cu片作阳极,Pt片作阴极,在15 V~35 V的阳极氧化电压下氧化2~18分钟,即在Cu片上获得Cu2O纳米阵列。其光电压达到0.0801~0.2693 V。本发明制备工艺简单、周期短,通过改变工艺条件能有效地控制样品Cu2O纳米阵列的厚度及其光电性能。
搜索关键词: 一种 cu2o 纳米 阵列 制备 方法
【主权项】:
1.一种Cu2O纳米阵列的制备方法,其特征在于具体步骤为:将含有8.8 mmol/L ~ 0.115 mol/L的NH4F溶液、7.54 mol/L ~ 7.99 mol/L的甘油水溶液与0.027 mmol/L ~ 0.295 mmol/L的十六烷基三甲基溴化铵溶液的混合溶液作为电解液;以Cu片作阳极,Pt片作阴极,在15 V~35 V的阳极氧化电压下氧化2 ~18分钟,即在Cu片上获得光电压达到0.0801 V~0.2693 V的Cu2O纳米阵列。
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