[发明专利]研磨机构及研磨设备在审
| 申请号： | 201710042440.7 | 申请日： | 2017-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN106736977A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 张铭汛;孙凯文;常浩;马良 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B9/10 | 分类号： | B24B9/10;B24B27/00;B24B41/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 许静,刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种研磨机构及研磨设备，所述研磨机构至少包括能够在待处理基板的同一侧边缘处的两个相对表面上分别进行研磨的两个研磨轮，两个研磨轮的旋转轴平行设置，两个研磨轮的旋转轴之间在垂直于待研磨基板的第一方向上具有第一预设间距，两个研磨轮中的至少一个研磨轮能够在第一方向上进行往复运动，以改变第一预设间距的大小。本发明所提供的研磨机构适用不同厚度的基板；且可实现对待处理基板进行多角度研磨。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 机构 设备 | ||
【主权项】：
一种研磨机构，用于对待处理基板的边缘进行研磨；其特征在于，所述研磨机构至少包括能够在待处理基板的同一侧边缘处的两个相对表面上分别进行研磨的两个研磨轮，所述两个研磨轮的旋转轴平行设置，且所述两个研磨轮的旋转轴之间在垂直于待研磨基板的第一方向上具有第一预设间距，其中所述两个研磨轮中的至少一个研磨轮能够在所述第一方向上进行往复运动，以改变所述第一预设间距的大小。
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