[发明专利]用于自动聚焦的设备有效
| 申请号： | 201710040869.2 | 申请日： | 2017-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN107490920B | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 金熙昇;金寅洙;高岛正裕 | 申请（专利权）人： | 磁化电子株式会社 |
| 主分类号： | G03B13/36 | 分类号： | G03B13/36 |
| 代理公司： | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王小东 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于自动聚焦的设备。所述用于自动聚焦的设备包括：第一框架，所述第一框架具有磁体；第二框架，所述第二框架具有用于将所述第一框架在光轴方向上移动的自动聚焦(AF)线圈和向所述磁体提供吸引力的磁轭；以及多个球，所述多个球布置在所述光轴方向上并且位于所述第一框架和所述第二框架之间，使得将所述第一框架和所述第二框架保持为彼此分隔开。基于所述光轴方向，所述多个球的整体高度等于或高于所述磁体的高度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 自动 聚焦 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于自动聚焦的设备，所述用于自动聚焦的设备包括：/n第一框架，所述第一框架具有磁体；/n第二框架，所述第二框架具有用于将所述第一框架在光轴方向上移动的自动聚焦线圈和设置在所述自动聚焦线圈后面并向所述磁体提供吸引力的磁轭；以及/n多个球，所述多个球布置在所述光轴方向上并且位于所述第一框架和所述第二框架之间，使得将所述第一框架和所述第二框架保持为彼此分隔开，/n其中，基于所述光轴方向，所述多个球的整体高度等于或高于所述磁体的高度且所述磁轭的整体高度等于或高于所述多个球的整体高度，并且所述第一框架的设置有所述磁体的一侧和所述第二框架的设置有所述自动聚焦线圈的一侧彼此面对，并且所述多个球定位在所述第一框架的设置有所述磁体的一侧和所述第二框架的设置有所述自动聚焦线圈和所述磁轭的一侧之间，/n其中，基于所述光轴方向，最靠上的球的顶端的外周位于等于或高于通过自动聚焦而移向最靠上位置的所述磁体的顶端的高度，并且其中，基于所述光轴方向，最靠下的球的底端的外周位于等于或低于通过自动聚焦而移向最靠下位置的所述磁体的底端的高度。/n
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