[发明专利]分析装置和分析方法在审
| 申请号： | 201710030908.0 | 申请日： | 2017-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN107014760A | 公开（公告）日： | 2017-08-04 |
| 发明（设计）人： | 井户琢也 | 申请（专利权）人： | 株式会社堀场制作所 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 | 代理人： | 周善来,李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供分析装置和分析方法。在分析装置中，确认测量光的经时性变化对吸光度造成的影响。分析装置(100、200)包括基准气体填充空间(Sc)、光谱生成部(75)和光谱比较部(76)。基准气体填充空间(Sc)形成在测量光(Lm)的光路上，以预先确定的第一浓度填充有与测量对象气体(Gs)不同的基准气体(Gc)。光谱生成部(75)生成将作为通过了基准气体填充空间(Sc)的测量光(Lm)的检测光的波长和检测光的相对强度取得了关联的实测光谱数据(Dms)。光谱比较部(76)计算通过直接吸收法预先实测第一浓度的基准气体(Gc)的吸收光谱得到的基准吸收光谱数据(Dss)和实测光谱数据(Dms)的差异。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种分析装置，其利用从光源输出的测量光对测量对象气体进行分析，所述分析装置的特征在于，所述分析装置包括：基准气体填充空间，其形成在所述测量光的光路上，以预先确定的第一浓度填充有与所述测量对象气体不同的基准气体；光谱生成部，其生成将检测光的波长和所述检测光的相对强度取得关联而得到的实测光谱数据，所述检测光是通过了所述基准气体填充空间的所述测量光；以及光谱比较部，其计算基准吸收光谱数据和所述实测光谱数据的差异，所述基准吸收光谱数据通过直接吸收法预先实测所述第一浓度的所述基准气体的吸收光谱而得到。
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