[发明专利]基于变分框架的自适应亮度不均变分校正方法有效
申请号: | 201710022683.4 | 申请日: | 2017-01-12 |
公开(公告)号: | CN106981052B | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 左芝勇;康荣雷;兰霞;杨少帅;熊杰;李阳;安毅 | 申请(专利权)人: | 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) |
主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00 |
代理公司: | 成飞(集团)公司专利中心 51121 | 代理人: | 郭纯武 |
地址: | 610036 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开的一种基于Retinex变分框架的自适应亮度不均变分校正方法,旨在提供一种无需经过对数变换,在消除图像亮度不均匀现象的同时,有效保持图像色彩和细节信息的自适应校正方法。本发明通过下述技术予以实现:利用光学成像探测系统获取不均匀退化图像作为观测图像;根据观测图像空间特征构建自适应权重函数;运用原始Retinex理论构造变分校正模型,通过权重函数自适应控制变分校正模型中反射分量在不同像素点的全变差正则化约束的强度,采用反射分量均值逼近灰度中值约束防止局部曝光过度;然后利用分裂Bregman迭代法和交替最小化方法求解上述变分校正模型得到光照分量和反射分量,最后对反射分量取整得到校正图像。 | ||
搜索关键词: | 基于 框架 自适应 亮度 不均 校正 方法 | ||
【主权项】:
一种基于变分框架的自适应亮度不均变分校正方法,具有如下技术特征:利用光学成像探测系统获取不均匀退化图像S作为观测图像,且大小为M*N;根据观测图像空间特征构建自适应权重函数w(x,y);运用原始Retinex理论构造关于光照分量L和反射分量R的变分校正模型E(R,L),通过自适应权重函数w(x,y)自适应控制变分校正模型E(R,L)中反射分量R在不同像素点的全变差正则化约束||▽R||的强度,在反射分量边缘处施加较小的全变差正则化约束||▽R||,保持反射分量R的边缘特征,而在反射分量R平坦区域施加较大的全变差正则化约束||▽R||;并采用反射分量R均值逼近灰度中值约束,即GW准则防止局部曝光过度;再根据分裂Bregman迭代法引入辅助变量d,将非线性的变分校正模型E(R,L)转化成线性的变分校正模型E′(R,L),然后利用交替最小化方法求解上述线性变分校正模型E′(R,L)得到光照分量L和反射分量R,最后对反射分量R取整得到匀光校正图像g,其中M和N为自然数。
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