[发明专利]存储装置有效

专利信息
申请号: 201710022633.6 申请日: 2017-01-12
公开(公告)号: CN107808680B 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 片山明 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 万利军;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及存储装置,具备:存储单元阵列,具有多个存储单元;生成电路,生成参考电流;读出放大器,对在存储单元流通的单元电流和参考电流进行比较,检测存储单元所存储的数据;第1钳位晶体管,连接在读出放大器的第1输入端子与存储单元之间;第2钳位晶体管,连接在读出放大器的第2输入端子与生成电路之间;第1布线层,连接于第1钳位晶体管的栅,在第1方向延伸;第2布线层,连接于第2钳位晶体管的栅,在第1方向延伸,与第1布线层相邻地配置;第1屏蔽线,与第1布线层和第2布线层之一相邻地配置,在第1方向延伸,被施加固定电压,第1布线层与第2布线层之间的第1间隔比第1布线层和第2布线层之一与第1屏蔽线之间的第2间隔窄。
搜索关键词: 存储 装置
【主权项】:
一种存储装置,具备:存储单元阵列,其具有多个存储单元;生成电路,其生成参考电流;读出放大器,其对在存储单元中流通的单元电流和所述参考电流进行比较,检测所述存储单元所存储的数据;第1钳位晶体管,其连接在所述读出放大器的第1输入端子与所述存储单元之间;第2钳位晶体管,其连接在所述读出放大器的第2输入端子与所述生成电路之间;第1布线层,其连接于所述第1钳位晶体管的栅,沿第1方向延伸;第2布线层,其连接于所述第2钳位晶体管的栅,沿所述第1方向延伸,与所述第1布线层相邻地配置;以及第1屏蔽线,其与所述第1布线层和所述第2布线层中的一个布线层相邻地配置,沿所述第1方向延伸,被施加固定电压,所述第1布线层与所述第2布线层之间的第1间隔,比所述第1布线层和所述第2布线层中的一个布线层与所述第1屏蔽线之间的第2间隔窄。
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