[发明专利]一种适用于寒冷环境下的光谱仪自适应控制方法有效

专利信息
申请号: 201710007187.1 申请日: 2017-01-05
公开(公告)号: CN106768323B 公开(公告)日: 2018-09-18
发明(设计)人: 王杭州;南立文;黄慧;宋宏;陈鹰 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02;G01J3/28
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种适用于寒冷环境下的光谱仪自适应控制方法,涉及自动控制技术,包括以下步骤:1)入射光强度粗测;2)光谱仪总体输出最大值确定;3)光谱仪总体输出分解;4)光谱仪最佳曝光时间top确定;5)光谱仪自适应测量,将光谱仪曝光时间设定为top进行测量。本发明的有益效果是该自适应控制方法通过预估入射光强度并自动调节曝光时间的方式,使得光谱仪能够自动适应外界环境温度和光场强度的变化,尤其在恶劣寒冷环境下,进行自适应测量,减少器件由于温度变化产生的测量误差,从而得到满意的测量结果。
搜索关键词: 一种 适用于 寒冷 环境 光谱仪 自适应 控制 方法
【主权项】:
1.一种适用于寒冷环境下的光谱仪自适应控制方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:(1)光谱仪接受外界入射光信号,同时通过光谱仪自带的温度传感器测量得到外界环境温度T,设定光谱仪曝光时间为t,获得对应于此入射光信号的光谱仪总体输出M(T,t);(2)根据得到的光谱仪总体输出M(T,t),利用递归算法,得到光谱仪总体输出数据中的最大值以及相对应的像素值;(3)对所述光谱仪总体输出M(T,t)进行分解,得到偏置电压Mdoff(T)、暗电压Mddk(T,t)和信号输出Ms(T,t),其中,Ms(T,t)=M(T,t)‑Mdoff(T)‑Mddk(T,t);(4)确定最佳曝光时间标准,同时通过线性差值方法计算最佳曝光时间top;(5)将光谱仪的曝光时间设置为top进行测量,得到测量结果(也即总体输出)。
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