[发明专利]双侧面量子点器件有效

专利信息
申请号: 201680089570.X 申请日: 2016-09-24
公开(公告)号: CN109791946B 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: R.皮拉里塞蒂;J.M.罗伯茨;N.K.托马斯;H.C.乔治;J.S.克拉克 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L29/775 分类号: H01L29/775;H01L29/12;H01L29/66
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 姜冰;杨美灵
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本文公开的是一种量子点器件以及相关的计算设备和方法。例如,在一些实施例中,量子点器件可以包括:具有第一和第二量子阱层的量子阱堆叠,设置在量子阱堆叠上使得第一量子阱层被设置在垒层和第一组栅之间的第一组栅,从第一组栅延伸到量子点器件的第一面的第一组导电通路,设置在量子阱堆叠上使得第二量子阱层被设置在垒层和第二组栅之间的第二组栅,以及从第二组栅延伸到量子点器件的第二面的第二组导电通路,其中第二面与第一面不同。
搜索关键词: 侧面 量子 器件
【主权项】:
1.一种量子点器件组装件,包括:量子点器件,包括:量子阱堆叠,包括第一和第二量子阱层,第一组栅,所述第一组栅被设置在所述量子阱堆叠上,使得所述第一量子阱层被设置在所述第二量子阱层和所述第一组栅之间,第一组导电通路,所述第一组导电通路从所述第一组栅延伸到所述量子点器件的第一面,第二组栅,所述第二组栅被设置在所述量子阱堆叠上,使得所述第二量子阱层被设置在所述第一量子阱层和所述第二组栅之间,以及第二组导电通路,所述第二组导电通路从所述第二组栅延伸到所述量子点器件的第二面,其中所述第二面与所述第一面不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680089570.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top