[发明专利]用于借助介质阻挡等离子体处理表面的装置有效
| 申请号： | 201680078601.1 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN108702836B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | L·特鲁特威格;M·哈恩尔;K-O·施托克;D·万德克;M·科普 | 申请（专利权）人： | 奇诺格有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;A61L2/14 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 侯鸣慧 |
| 地址： | 德国杜*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于借助介质阻挡等离子体处理表面的装置，所述表面作用为配对电极，所述装置具有由壳体本体(4)和壳体头部(17)构成的电绝缘壳体(1)，壳体中具有高压供应线路(10)和用于与该高压供应线路(10)连接的电极(18)的支承件，电极具有将该电极(18)相对于表面屏蔽的电介质(19)，电极(18)可旋转地支承在壳体头部(17)中并且以被电介质(19)覆盖的表面区段从壳体头部(17)中伸出，能够以简单的结构以如下方式实现电极在要处理的表面上原则上不受限地运动：所述电极具有布置在中心轴线中的旋转支承元件(28)，该电极借助该旋转支承元件与旋转支承元件(29)共同作用地绕中心轴线可旋转地支承在壳体头部(17)中并且与高压供应线路(10)连接，壳体头部(17)能够绕相对于中心轴线成角度的旋转轴线与壳体本体(4)连接并设有用于在旋转运动期间维持电连接的接触组件(11、21)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 借助 介质 阻挡 等离子体 处理 表面 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于借助介质阻挡等离子体处理表面的装置，其中，所述表面起到配对电极的功能，所述装置具有由壳体本体(4)和壳体头部(17)构成的、电绝缘的壳体(1)，在所述壳体中具有高压供应线路(10)和用于与所述高压供应线路(10)连接的电极(18)的支承件，所述电极具有将所述电极(18)相对于所述表面屏蔽的电介质(19)，其中，所述电极(18)以能旋转的方式支承在所述壳体头部(17)中并且以被所述电介质(19)覆盖的表面区段从所述壳体头部(17)伸出，其特征在于，所述电极具有布置在中心轴线中的旋转支承元件(28)，借助所述旋转支承元件，所述电极与旋转支承元件(29)共同作用地以能绕所述中心轴线旋转的方式支承在所述壳体头部(17)中并且与所述高压供应线路(10)连接，并且所述壳体头部(17)以能绕相对于所述中心轴线成角度的旋转轴线旋转的方式与所述壳体本体(4)连接并且设有用于在旋转运动期间维持电连接的接触组件(11、21)。
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