[发明专利]试样分析用基板、试样分析装置、试样分析系统和记录介质有效
申请号: | 201680075560.0 | 申请日: | 2016-12-22 |
公开(公告)号: | CN108431609B | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 冈本房俊;城野政博 | 申请(专利权)人: | 普和希控股公司 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00;G01N35/08;G01N37/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;杨光军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种通过旋转运动进行液体的移送的试样分析用基板,具备基板和分别位于基板内的第1保持室、第2保持室、主室、第1流路、第2流路,基板具有旋转轴,第2保持室用于保持从第1保持室排出的第1液体,主室用于保持从第2保持室排出的第1液体,第1流路具有第1开口和第2开口,第1开口和第2开口分别与第1保持室和第2保持室连接,第2流路具有第3开口和第4开口,第3开口和第4开口分别与第2保持室和主室连接,第1保持室具有比连接第1开口的位置远离所述旋转轴的部分,第2保持室具有比连接第2开口的位置远离旋转轴的部分,在第2流路中,第3开口比第4开口接近旋转轴。 | ||
搜索关键词: | 试样 分析 用基板 装置 系统 记录 介质 | ||
【主权项】:
1.一种试样分析用基板,是通过旋转运动进行液体的移送的试样分析用基板,具备基板、第1保持室、第2保持室、主室、第1流路和第2流路,所述基板具有旋转轴,所述第1保持室位于所述基板内,具有用于保持第1液体的第1空间,所述第2保持室位于所述基板内,具有用于保持从所述第1保持室排出的所述第1液体的第2空间,所述主室位于所述基板内,具有用于保持从所述第2保持室排出的所述第1液体的第3空间,所述第1流路位于所述基板内,具有第1开口和第2开口,所述第1开口和所述第2开口分别与所述第1保持室和所述第2保持室连接,所述第2流路位于所述基板内,具有第3开口和第4开口,所述第3开口和所述第4开口分别与所述第2保持室和所述主室连接,所述第1保持室具有比连接所述第1开口的位置远离所述旋转轴的部分,所述第2保持室具有比连接所述第2开口的位置远离所述旋转轴的部分,在所述第2流路中,所述第3开口比所述第4开口接近所述旋转轴。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于普和希控股公司,未经普和希控股公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680075560.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。