[发明专利]用于检查及量测的方法和设备有效
| 申请号： | 201680068551.9 | 申请日： | 2016-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN108292106B | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | F·兹杰普;S·T·范德波斯特;孔繁鹤;D·阿克布鲁特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G02B21/24;G01N21/956 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法包括：获得由目标重新定向的测量辐射的多个辐射分布，多个辐射分布中的每个辐射分布在目标和测量设备的光学元件之间的不同间隙距离处被获得，光学元件是用于向目标提供测量辐射的、距离目标最近的光学元件；以及结合描述测量目标的数学模型，使用多个辐射分布的数据来确定与目标有关的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检查 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：获得由目标重新定向的测量辐射的多个辐射分布，所述多个辐射分布中的每个辐射分布在所述目标和测量设备的光学元件之间的不同间隙距离处被获得，所述光学元件是用于向所述目标提供所述测量辐射的、距离所述目标最近的光学元件；以及结合描述所述测量目标的数学模型，使用所述多个辐射分布的数据来确定与所述目标有关的参数。
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