[发明专利]用于等离子体处理的发弧检测设备有效
申请号: | 201680068256.3 | 申请日: | 2016-11-03 |
公开(公告)号: | CN108292582B | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 琳·张;王荣平;简·J·陈;迈克尔·S·考克斯;安德鲁·V·勒 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文所公开的实施方式大致涉及一种等离子体处理腔室和用于发弧事件的检测设备。在一个实施方式中,本文公开一种发弧检测设备。发弧检测设备包含探针、检测电路和数据记录系统。探针定位为部分地暴露于等离子体处理腔室的内部空间。检测电路配置成从探针接收模拟信号并且输出按比例缩放在模拟信号中呈现的事件的输出信号。数据记录系统经通信耦合以从检测电路接收输出信号。数据记录系统配置成跟踪内部空间中发生的发弧事件。 | ||
搜索关键词: | 用于 等离子体 处理 检测 设备 | ||
【主权项】:
1.一种发弧检测设备,包含:探针,所述探针定位为部分地暴露于等离子体处理腔室的内部空间;检测电路,所述检测电路配置成从所述探针接收模拟信号,并且输出按比例缩放在所述模拟信号中呈现的事件的输出信号;和数据记录系统,所述数据记录系统经通信耦合,以从所述检测电路接收所述输出信号,所述数据记录系统配置成跟踪在所述内部空间中发生的发弧事件。
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