[发明专利]用于制造隔膜组件的方法有效
| 申请号： | 201680064056.0 | 申请日： | 2016-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN108292102B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | S·奥斯特霍夫;保罗·詹森;B·L·M-J·K·韦伯罗根 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/62;G21K1/06;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于制造用于EUV光刻的隔膜组件(80)的方法，所述方法包括：设置叠层(40)，所述叠层包括介于支撑衬底(41)与附接衬底(51)之间的隔膜层(45)，其中所述支撑衬底包括内部区和第一边界区；加工所述叠层，包括选择性地移除所述支撑衬底的所述内部区，以形成隔膜组件，所述隔膜组件包括：隔膜(45)，所述隔膜由至少所述隔膜层形成；和支撑件(81)，所述支承件保持所述隔膜，所述支撑件至少部分地由所述支撑衬底的所述第一边界区形成。所述附接衬底可被结合至所述叠层的其余部分。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 隔膜 组件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造用于EUV光刻的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供叠层，所述叠层包括介于支撑衬底与附接衬底之间的隔膜层，其中所述支撑衬底包括内部区和第一边界区；加工所述叠层，包括选择性地移除所述支撑衬底的所述内部区，以形成隔膜组件，所述隔膜组件包括：隔膜，所述隔膜由至少所述隔膜层形成；和支撑件，所述支撑件保持所述隔膜，所述支撑件至少部分地由所述支撑衬底的所述第一边界区形成。
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